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UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)

UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)

簡要描述:UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。

產(chǎn)品型號(hào):

所屬分類:拋光機(jī)

更新時(shí)間:2024-11-05

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

詳情介紹

UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、

陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。

UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對被研磨樣品加壓,壓力施加于載物盤的中心,使整個(gè)載物盤受力均勻。通過手觸控制屏

對設(shè)備進(jìn)行控制,上盤可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn),下盤作順時(shí)針旋轉(zhuǎn),通過樣品盤的材質(zhì)不同

可以選擇上盤的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過程中噪音小,具有研磨定時(shí)功能,時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止,可以實(shí)現(xiàn)無人看

守工作。

 性能指標(biāo)和基本配置
安裝條件

● 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
● 水:設(shè)備配有上水口及下水口,需自行連接自來水及排水
● 電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
● 氣:無。
● 工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
● 通風(fēng)裝置:不需要

主要特點(diǎn)

● 設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。
● 中心加載壓力,壓力穩(wěn)定可靠。
● 性能優(yōu)良,操作簡單,適用范圍廣。

技術(shù)參數(shù)

● 電源:220V  50Hz
● 載物盤:?150mm
● 桃型孔:?25.4mm
● 磨拋盤:?250mm
● 載物盤(上盤)轉(zhuǎn)速:10rpm-80rpm(無級(jí)調(diào)速)
● 磨拋盤(下盤)轉(zhuǎn)速:50rpm-400rpm(增量調(diào)速,最小增量10)
● 壓力:0.5kg-20kg(最小增量0.5kg)

產(chǎn)品尺寸

780mm×590mm×750mm

產(chǎn)品重量100kg
標(biāo)準(zhǔn)配件

1

鑄鋁拋光盤2個(gè)image.png
2平載物盤1個(gè)image.png
3桃型孔載物盤1個(gè)image.png
4磁力片4片image.png
5研拋底片6片image.png
6砂紙(240#、400#、800#、1500#)各2片image.png
7拋光墊(磨砂革、合成革、聚氨酯)各2片image.png
8金剛石拋光膏(W2.5)1支image.png
可選配件

● SKZD-2滴料器
● SKZD-3滴料器
● SKZD-4自動(dòng)滴料器
● YJXZ-12攪拌循環(huán)泵
● 精密測厚儀
● GPC-50A精密磨拋控制儀
● 陶瓷研磨盤
● 玻璃研磨盤

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