您的位置：
鈣鈦礦鍍膜機
簡要描述：鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作，廣泛應(yīng)用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：
所屬分類：蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
更新時間：2023-11-06
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作，廣泛應(yīng)用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。
| 功能特點 |
|---|
樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。
設(shè)有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，MAX烘烤加熱溫度為180℃。
設(shè)有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。
| 技術(shù)參數(shù) | ||
|---|---|---|
| 鍍膜室 | ● 不銹鋼材料，采用方形前后開門結(jié)構(gòu)，內(nèi)帶有防污板，腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm | |
| 真空排氣系統(tǒng) | ● 采用分子泵+機械泵系統(tǒng) | |
| 真空度 | ● 鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa | |
| 系統(tǒng)漏率 | ● ≤1×10-7Pa | |
| 蒸發(fā)源 | ● 安裝在真空室的下底上；有機蒸發(fā)源4個、容積5ml，2臺蒸發(fā)電源，可測溫、控溫，加熱溫度400℃，功率0.5KW；無機蒸發(fā)源4套、容積5ml，2臺蒸發(fā)電源，加熱電流300A，功率3.2KW；蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開啟 | |
| 樣品架 | ● 安裝在真空室的上蓋上，可放置?120mm的樣品、載玻片，旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm | |
| 加熱溫度 | ● RT-180℃，測溫、控溫 | |
| 膜厚控制儀 | ● 石英晶振膜厚控制儀，膜厚測量范圍0-999999? | |
鈣鈦礦鍍膜機
免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容（包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等），僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r，或許導(dǎo)致所述內(nèi)容與實際情況存在一定的差異，請與本公司客服人員聯(lián)系確認。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，科晶公司不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知。
在線交流
咨詢電話